1.一种柔性基材镀膜装置，其特征在于，包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、施

　　镀件以及收卷辊，所述隔板位于所述真空室内以用于将所述真空室分隔为加热室和镀膜

　　室；所述隔板上设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔用于供基材自所述加热室传输至

　　所述放卷辊、所述加热件以及所述收卷辊位于所述加热室，所述放卷辊用于对基材放

　　所述镀膜辊和所述施镀件位于所述镀膜室，所述施镀件靠近所述镀膜辊以用于对所述

　　2.如权利要求1所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括冷却件，所述冷却件位

　　3.如权利要求2所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括镀膜挡板，所述镀膜挡

　　板位于所述镀膜室的内部且设于所述镀膜辊和所述施镀件之间，所述镀膜挡板上设有镀膜

　　开口，所述镀膜辊位于所述镀膜开口处，所述施镀件形成的镀层材料自所述镀膜开口处逸

　　4.如权利要求3所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，在从所述镀膜辊到所述施镀件

　　5.如权利要求3所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，所述镀膜挡板将所述镀膜室分

　　隔为冷却室和施镀室，所述冷却件位于所述冷却室内，所述施镀件位于所述施镀室内。

　　6.如权利要求1所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，所述加热件为中空加热管，所

　　7.如权利要求1所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括加热辊，所述加热辊位

　　于所述加热室，所述加热辊位于所述镀膜辊和所述收卷辊之间以用于加热镀膜之后、收料

　　8.如权利要求1～7中任一项所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，所述镀膜辊上设

　　9.如权利要求1～7中任一项所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括温度传感

　　器，所述温度传感器位于所述加热室和/或所述镀膜室内，所述温度传感器用于检测所述加

　　10.如权利要求1～7中任一项所述的柔性基材镀膜装置，其特征在于，还包括导料辊，

　　能已经得到了广泛的应用。在柔性基材表面镀制薄膜的过程中，由于柔性基材和薄膜往往

　　是不同的材料，因此在柔性基材表面镀制薄膜时容易出现薄膜镀层厚度均匀性差、附着力、

　　基于此，有必要提供一种能够提高柔性基材表面薄膜镀层附着力、致密性、厚度均

　　一种柔性基材镀膜装置，其特征在于，包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、

　　施镀件以及收卷辊，所述隔板位于所述真空室内以用于将所述真空室分隔为加热室和镀膜

　　室；所述隔板上设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔用于供基材自所述加热室传输至

　　材放卷，所述加热件用于加热所述加热室内的基材，所述收卷辊用于对基材收卷；

　　于所述镀膜室的内部且设于所述镀膜辊和所述施镀件之间，所述镀膜挡板上设有镀膜开

　　口，所述镀膜辊位于所述镀膜开口处，所述施镀件形成的镀层材料自所述镀膜开口处逸出

　　述加热室，所述加热辊位于所述镀膜辊和所述收卷辊之间以用于加热镀膜之后、收料之前

　　器位于所述加热室和/或所述镀膜室内，所述温度传感器用于检测所述加热室和/或所述镀

　　上述柔性基材镀膜装置包括真空室、隔板、放卷辊、加热件、镀膜辊、施镀件以及收

　　卷辊，隔板位于真空室内以用于将真空室分隔为加热室和镀膜室；隔板上设有第一通孔和

　　第二通孔，第一通孔用于供基材自加热室传输至镀膜室，第二通孔用于供基材自镀膜室传

　　输至加热室。放卷辊、加热件以及收卷辊位于加热室，放卷辊用于对基材放卷，加热件用于

　　加热加热室内的基材，收卷辊用于对基材收卷。镀膜辊和施镀件位于镀膜室，施镀件靠近镀

　　膜辊以用于对镀膜辊表面的基材施镀，进而在基材表面形成薄膜镀层。在该柔性基材镀膜

　　装置中，当基材由放卷辊放料出来之后，通过镀膜辊，然后在收卷辊上收卷。在此过程中，基

　　材先在加热室内被加热，此时加热过程中能够对基材起到良好的除气效果，这样有利于提

　　高镀膜过程中薄膜镀层与基材表面之间的结合力和致密程度，进而提高基材表面薄膜镀层

　　厚度的均匀性。然后随着基材的进一步传输，基材传输到镀膜辊的表面，此时通过施镀件的

　　作用将形成的镀层材料传递到基材表面，进而在基材表面沉积成膜，形成薄膜镀层。当镀膜

　　完成之后，表面形成有薄膜镀层的基材通过隔板上的第二通孔再次进入加热室内，在加热

　　室内再次加热，此时能够有效保持薄膜镀层的持续晶化，提升薄膜的致密性，薄膜镀层的应

　　力也能够得到充分释放，使薄膜镀层的内应力与基材的内应力更好地相匹配，有利于提高

　　薄膜镀层的品质，进一步改善基材表面薄膜镀层厚度的均匀性。当表面形成有薄膜镀层的

　　基材在加热室内被再次加热之后，基材在收卷辊上收卷，完成柔性基材的镀膜和收料。采用

　　上述柔性基材镀膜装置，一方面能够有效提高基材表面薄膜镀层厚度的均匀性，另一方面

　　还能够对镀膜过程中各阶段的温度进行控制，有效保持和提高薄膜镀层在基材表面的结合

　　力，使基材表面的薄膜镀层不易脱落。同时，采用上述柔性基材镀膜装置对柔性基材进行镀

　　膜时，可以使薄膜镀层保持持续晶化，提高薄膜镀层的致密性及品质，在镀制过程中持续晶

　　进一步地，柔性基材镀膜装置还包括冷却件，冷却件位于镀膜室，冷却件用于冷却

　　镀膜室内的水蒸气。当基材在加热室加热除气之后，基材通过隔板上的第一通孔进入镀膜

　　室，此时在镀膜室内通过冷却件的冷却作用可以使镀膜室内的水蒸气冷凝，比如可以将水

　　蒸气冷凝成固态的冰，进而除去镀膜室内的水蒸气。避免水蒸气在镀膜室的运动给镀膜室

　　的真空效果带来不利影响，进而可以使基材在镀膜室内稳定镀膜，进一步提高镀膜过程中

　　100、柔性基材镀膜装置；101、隔板；102、放卷辊；103、加热件；104、冷却件；105、镀

　　膜辊；106、施镀件；107、收卷辊；108、加热室；109、冷却室；110、施镀室；111、镀膜挡板；112、

　　镀膜开口；113、镀层材料；114、加热辊；115、温度传感器；116、导料辊；200、基材。

　　实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分

　　理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域

　　技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公

　　在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽

　　度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、

　　“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的

　　方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装

　　置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型

　　此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性

　　或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者

　　隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两

　　在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固

　　定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是

　　机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个

　　元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技

　　域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为

　　了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括

　　请参阅图1，本实用新型一实施例提供了一种柔性基材镀膜装置100。该柔性基材

　　第一通孔和第二通孔，第一通孔用于供基材自加热室108传输至镀膜室，第二通孔用于供基

　　材自镀膜室传输至加热室108。放卷辊102、加热件103以及收卷辊107位于加热室108，放卷

　　辊102用于对基材放卷，加热件103用于加热加热室108内的基材，收卷辊107用于对基材收

　　卷。镀膜辊105和施镀件106位于镀膜室，施镀件106靠近镀膜辊105以用于对镀膜辊105表面

　　在本实施例的柔性基材镀膜装置100中，当基材200由放卷辊102放料出来之后，通

　　过镀膜辊105，然后在收卷辊107上收卷。在此过程中，基材先在加热室108内被加热，此时加

　　热过程中能够对基材起到良好的除气效果，这样有利于提高镀膜过程中薄膜镀层与基材表

　　面之间的结合力和致密程度，进而提高基材表面薄膜镀层厚度的均匀性。然后随着基材的

　　进一步传输，基材传输到镀膜辊105的表面，此时通过施镀件106的作用将形成的镀层材料

　　113传递到基材表面，进而在基材表面沉积成膜，形成薄膜镀层。当镀膜完成之后，表面形成

　　有薄膜镀层的基材通过隔板101上的第二通孔再次进入加热室108内，在加热室108内再次

　　加热，此时能够有效保持薄膜镀层的持续晶化，薄膜镀层的应力也能够得到充分释放，使薄

　　膜镀层的内应力与基材的内应力更好地相匹配，有利于提高薄膜镀层的品质，进一步改善

　　基材表面薄膜镀层厚度的均匀性。当表面形成有薄膜镀层的基材在加热室108内被再次加

　　热之后，基材在收卷辊107上收卷，完成柔性基材的镀膜和收料。采用本实施例的中柔性基

　　材镀膜装置100，一方面能够有效提高基材表面薄膜镀层厚度的均匀性，另一方面还能够对

　　镀膜过程中各阶段的温度进行控制，有效保持和提高薄膜镀层在基材表面的结合力，使基

　　材表面的薄膜镀层不易脱落。同时，采用该柔性基材镀膜装置100对柔性基材进行镀膜时，

　　可以使薄膜镀层保持持续晶化，提高薄膜镀层的品质，而且还能够提高镀膜加工的效率。

　　可以理解的是，施镀件106可以是但不限定为真空蒸发施镀件、真空溅射施镀件以

　　及真空离子施镀件。通过施镀件106的作用可以形成镀层材料113，镀层材料113可以是靶材

　　受击形成的材料，进而在基材的表面形成薄膜镀层。在实际镀膜过程中，可以根据镀膜要求

　　在一个具体的示例中，柔性基材镀膜装置100还包括冷却件104，冷却件104位于镀

　　膜室，冷却件104用于冷却镀膜室内的水蒸气。当基材在加热室103加热除气之后，基材通过

　　隔板101上的第一通孔进入镀膜室，此时在镀膜室内通过冷却件的冷却作用可以使镀膜室

　　内的水蒸气冷凝，通过冷却件的作用可以使水蒸气冷凝成固体冰，进而除去镀膜室内的水

　　蒸气。避免水蒸气在镀膜室的运动给镀膜室的真空效果带来不利影响，进而可以使基材在

　　镀膜室内稳定镀膜，进一步提高镀膜过程中薄膜镀层与基材表面之间的结合力和致密程

　　在一个具体的示例中，柔性基材镀膜装置100还包括镀膜挡板111，镀膜挡板111位

　　于镀膜室的内部且设于镀膜辊105和施镀件106之间，镀膜挡板111上设有镀膜开口112，镀

　　膜辊105位于镀膜开口112处，施镀件106形成的镀层材料113自镀膜开口112处逸出至镀膜

　　辊105上的基材表面。在镀膜过程中，通过施镀件106的作用将靶材表面的物质撞出形成镀

　　层材料113，镀层材料113逸出至镀膜辊105上的基材表面，进而在基材表面沉积形成薄膜镀

　　层。通过镀膜挡板111的设置并且在镀膜挡板111上开设镀膜开口112，此时镀层材料113从

　　镀膜开口112处逸出至镀膜辊105上的基材表面。多余的镀层材料113可以被镀膜挡板111拦

　　截，这样可以提高镀层材料113在基材表面沉积的准确性。另外，被镀膜挡板111拦截的镀层

　　材料113可以被回收利用，提高镀层材料113的利用率。尤其是当镀层材料113为贵金属时，

　　进一步地，在从镀膜辊105到施镀件106的方向上，镀膜开口112的口径逐渐增大。

　　这样可以使施镀件106形成的镀层材料113充分作用于从镀膜开口112处露出的基材的表

　　再进一步地，镀膜挡板111将镀膜室分隔为冷却室109和施镀室110，冷却件104位

　　于冷却室109内，施镀件106位于施镀室110内。此时，镀膜挡板111将镀膜室分隔为冷却室

　　109和施镀室110，即可以将基材的冷却和基材的镀膜通过镀膜分开进行，避免施镀件106和

　　冷却件104之间的相互干扰。同时，还能够对镀膜过程中多余的镀层材料113进行更好地限

　　位，有效避免多余的镀层材料113逸出至冷却室109内进而对冷却室109带来不利影响。

　　作为加热件103的一种具体选择，加热件103为中空加热管，中空加热管内装有加

　　热介质。通过中空加热管配合加热介质的使用，可以对加热室108内的基材进行稳定的加

　　热，方便对基材的温度进行控制。具体地，通过加热件103的使用，控制加热室108内基材的

　　温度为20℃～100℃，比如，控制加热室108内基材的温度为20℃、25℃、30℃、35℃、40℃、45

　　℃、50℃、55℃、60℃、65℃、70℃、75℃、80℃、85℃、90℃、95℃或100℃。可以理解的是，在采

　　用加热件103对加热室108内的基材进行加热时，还可以控制加热室108内的基材的温度为

　　20℃～100℃范围内的其他温度值。进一步地，加热件103的形状为蛇形。此时，蛇形的加热

　　件103能够表现出更加均匀的加热效果，便于对加热室108进行充分加热，使加热室108内的

　　作为冷却件104的一个具体选择，冷却件104为中空冷却管，中空冷却管内装有冷

　　却介质。通过中空冷却管配合冷却介质的使用，可以对镀膜室内的水蒸气进行稳定的冷却，

　　方便对水蒸气的温度进行控制。具体地，通过冷却件104的使用，控制镀膜室内的温度为‑

　　100℃以下。可选地，通过冷却件104的使用，控制镀膜室内的温度为‑100℃～‑150℃。比如，

　　140℃、‑145℃或‑150℃。可以理解的是，在采用冷却件104对镀膜室内的水蒸气进行冷却

　　时，还可以控制镀膜室内的温度为‑100℃以下的其他温度值。进一步地，冷却件104的形状

　　为蛇形。此时，蛇形的冷却件104能够表现出更加均匀的冷却效果，便于对镀膜室进行充分

　　冷却，使镀膜室内的基材保持在稳定的温度氛围内，有利于改善冷却效果。可选地，中空冷

　　在一个具体的示例中，镀膜辊105是具有加热功能的镀膜辊105。比如，镀膜辊105

　　上设有加热组件以用于对镀膜辊105表面的基材加热。具体地，通过镀膜辊105的加热功能，

　　控制镀膜辊105表面的基材的温度为‑30℃～30℃。比如，通过镀膜辊105的加热功能，控制

　　镀膜辊105表面的基材的温度为‑30℃、‑25℃、‑20℃、‑15℃、‑10℃、0℃、5℃、10℃、15℃、20

　　℃、20℃或30℃。可以理解的是，通过镀膜辊105的加热功能，控制镀膜辊105表面的基材的

　　温度时，还可以控制镀膜辊105表面的基材的温度为‑30℃～30℃范围内的其他温度值。

　　在另一个具体的示例中，柔性基材镀膜装置100还包括加热辊114，加热辊114位于

　　加热室108，加热辊114位于镀膜辊105和收卷辊107之间以用于加热镀膜之后、收料之前的

　　基材。通过加热辊114的设置可以使薄膜镀层的应力进行更好地释放，更好地平衡薄膜镀层

　　和基材之间的内应力，提高薄膜镀层的品质。进一步地，通过加热辊114控制加热辊114表面

　　的基材的温度为30℃～120℃。可选地，通过加热辊114控制加热辊114表面的基材的温度为

　　105℃、110℃、115℃或120℃。可以理解的是，通过加热辊114控制加热辊114表面的基材的

　　在另一个具体的示例中，柔性基材镀膜装置100还包括温度传感器115，温度传感

　　器115位于加热室108和/或镀膜室内，温度传感器115用于检测加热室108和/或镀膜室内的

　　基材的温度。通过温度传感器115的设置可以方便地对加热室108和/或镀膜室内的基材的

　　具体地，在图1所示的柔性基材镀膜装置100中，温度传感器115有2个，2个温度传

　　感器115分别位于放卷辊102和收卷辊107处以用于分别对放料的基材和收料的基材的温度

　　进行检测。可以理解的是，温度传感器115的数量还可以其他数值。比如，温度传感器115的

　　数量为1个～10个，比如，1个、2个、3个、4个、5个、6个、7个、8个、9个、10个等。温度传感器115

　　在另一个具体的示例中，柔性基材镀膜装置100还包括导料辊116，导料辊116位于

　　加热室108和/或镀膜室内，导料辊116用于传导基材。通过导料辊116的设置可以对基材的

　　传输方向进行有效控制。在图1所示的柔性基材镀膜装置100中，导料辊116的数量为10个。

　　当然，可以理解的是，导料辊116的数量和位置还可以根据实际传输需求进行适当设置。

　　用上述柔性基材镀膜装置100，柔性基材镀膜方法包括如下步骤：通过放卷辊102对基材放

　　卷，使基材依次穿过第一通孔、镀膜辊105、第二通孔，然后通过收卷辊107对基材收卷。该柔

　　性基材镀膜方法能够有效提高柔性基材表面薄膜镀层厚度的均匀性，提高薄膜镀层与基材

　　表面的结合力，同时还能够改善薄膜镀层的品质，提高柔性基材镀膜的加工效率。

　　在一个具体的示例中，通过加热件103控制加热室108内的基材的温度为20℃～

　　100℃。比如，控制加热室108内基材的温度为20℃、25℃、30℃、35℃、40℃、45℃、50℃、55

　　℃、60℃、65℃、70℃、75℃、80℃、85℃、90℃、95℃或100℃。可以理解的是，在采用加热件

　　103对加热室108内的基材进行加热时，还可以控制加热室108内的基材的温度为20℃～100

　　在一个具体的示例中，通过冷却件104控制镀膜室内的温度为‑100℃以下。可选

　　地，通过冷却件104的使用，控制镀膜室内的温度为‑100℃～‑150℃。比如，控制镀膜室内的

　　或‑150℃。可以理解的是，在采用冷却件104对镀膜室内的水蒸气进行冷却时，还可以控制

　　在一个具体的示例中，通过镀膜辊105控制镀膜辊105表面的基材的温度为‑30℃

　　～30℃。比如，通过镀膜辊105的加热功能，控制镀膜辊105表面的基材的温度为‑30℃、‑25

　　℃、‑20℃、‑15℃、‑10℃、0℃、5℃、10℃、15℃、20℃、20℃或30℃。可以理解的是，通过镀膜